| 主权项 |
1.一种用于防止水垢形成及腐蚀之水处理剂,其特 征系含有水溶性聚合体,该水溶性聚合体是由单体 成分所组成,该单体成分系由含有下列通式(I)可显 示萤光的乙烯性不饱和基之水溶性单体之单体:0.1 -15mole%、一种以上之单羧酸系或多价羧酸系单体 之羧系单体:70-99.9mol%以及其他单体:0-30mol%(各单体 之合计量为100mol%)所形成, [式中,A1及A2分别代表独立之氢、甲基、或-COOX,A3 代表氢、甲基、-COOX或-CH2COOX,且A1及A2不会同时为- COOX,且当A3为-COOX或-CH2COOX时,A1.A2分别代表独立之 氢或甲基;X代表氢、硷金属、硷土族金属、铵基 或有机胺基,又R2代表-COOX、-CH2COO-、-CONH-、-CH2CONH- 、-NH-、-(CH2)kNH-(其中k为1-4)、-(CH2)LO-(其中L为1-4) 中之任一者,R1代表氢或甲基,m代表1-3,n代表1-100,R3 代表由具有共轭双键结合之环状芳基或杂环化合 物所衍生出之有机基。2.如申请专利范围第1项所 述之水处理剂,其中令该水溶性聚合体在纯水中溶 解10ppm时之萤光强度当作FL1,而分酚在纯水中溶解0 .1ppm时之萤光强度为FL2时,上述萤光强度比FL1/FL2大 于1。3.如申请专利范围第1项所述之水处理剂,其 中该水溶性聚合体之单体成分构成比例为: 0.1-15mol%之通式(I)所示的单体; 70-95mol%之1种以上的单羧酸系或多价羧酸系单体之 羧酸系单体; 5-30mol%之3-烯丙氧基-2-羟基丙磺酸钠(其中各个单 体加起来为100mol%)。4.如申请专利范围第1项所述 之水处理剂,其中该水溶性聚合体系由水系聚合所 得到,且该聚合体的胶化性为0.02以下。图式简单 说明: 第一图系实施例1所得之水溶性聚合体的NMR光谱图 。 第二图系实施例1所得之水溶性聚合体的NMR光谱图 中7-8ppm部分的扩大光谱图。 |
