METHOD AND DEVICE FOR TRANSPORTING A SEMICONDUCTOR WAFER THROUGH A TREATMENT CONTAINER

摘要

Um auf einfache und kostengünstige Weise eine homogene und gute Behandlung von Substraten zu gewährleisten, sind eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Transportieren eines Substrats durch einen Behandlungsbehälter mit einer Breite in Bewegungsrichtung des Substrats, die kleiner ist als der Durchmesser des Substrats, vorgesehen. Das Substrat wird mit einer ersten Transporteinrichtung, die in Bewegungsrichtung des Substrats angeordnet ist, teilweise durch den Behandlungsbehälter bewegt, und durch eine in Bewegungsrichtung des Substrats hinter dem Behandlungsbehälter liegende zweite Transporteinrichtung aufgenommen und durch den Behandlungsbehälter gezogen.