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发明名称 PATTERN FILM REPAIR USING A GAS ASSISTED FOCUSED PARTICLE BEAM SYSTEM
摘要
申请公布号 KR20010006492(A) 申请公布日期 2001.01.26
申请号 KR1019997009582 申请日期 1999.10.16
申请人 发明人
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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