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发明名称 Resist film removing composition and method for manufacturing thin film circuit element using the composition
摘要
申请公布号 SG77656(A1) 申请公布日期 2001.01.16
申请号 SG19980004250 申请日期 1998.10.22
申请人 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.;SHARP CORPORATION 发明人 NOHARA MASAHIRO;TAKEUCHI YUKIHIKO;OKETANI TAIMI;MARUYAMA TAKETO;KARITA TETSUYA;ABE HISAKI;AOYAMA TETSUO
分类号 G03F7/42;C11D7/32;C11D7/50;C11D11/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/42;H01L21/306;H05K3/06 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
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