| 摘要 |
<p>반도체장치의 포토리소그래피공정 시 주변부에 대한 패턴형성불량을 방지할 수 있는 반도체장치 제조용 노광장치의 애퍼쳐에 관해 개시한다. 본 고안은, 반도체장치의 포토리소그래피공정에 사용되는 노광장치의 애퍼쳐에 있어서, 상기 애퍼쳐 중앙에 광에 대해 부분투과율을 갖는 영역을 구비한 노광장치의 애퍼쳐를 제공하는 것을 특징으로 한다. 본 고안에 의하면, 높은 해상도를 유지하면서도 주변부 패턴을 양호하게 형성할 수 있을 뿐 아니라 단차가 큰 지역의 포토리소그래피공정의 여유도를 확보할 수 있기 때문에 포토리소그래피 공정의 효율을 높일 수 있다.</p> |
