ALIGN KEY FOR SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE

摘要

본 발명은 반도체 노광장비용 얼라인키에 관한 것으로, 장방형의 기준마크 내부에 상기 기준마크와 동일한 장방형의 외부패턴을 배치하고, 상기 외부패턴의 내부에 역시 장방형의 내부패턴을 배치하여 샷의 엑스축 및 와이축에 대한 얼라인을 동시에 진행하도록 함으로써 마스크에서의 얼라인키의 공간차지면적을 최소화할 수 있으며 아울러 칩의 집적화에 기여할 수 있게 된다.