发明名称 印表机喷墨头之制造方法
摘要 本案系一种喷墨式印表机喷墨头之制造方法,此喷墨头包含复数个墨水槽,用以盛装一墨水;一喷孔片,上有对应于该复数个墨水槽之复数个喷墨孔,用以射出该墨水;一晶片,用以控制该墨水之射出,其步骤系包含:a)于该晶片上涂布一光阻层;b)于该光阻层上进行一微影步骤,以产生该复数个墨水槽;c)将该喷孔片放置于该光阻层上,使其上该复数个喷墨孔对准该复数个墨水槽;以及 d)加热该光阻层,使该光阻层黏合该晶片及该喷孔片。
申请公布号 TW418161 申请公布日期 2001.01.11
申请号 TW086114706 申请日期 1997.10.07
申请人 研能科技股份有限公司 发明人 莫自治;杨长谋;庄元中;周沁怡
分类号 B41J2/16 主分类号 B41J2/16
代理机构 代理人 蔡清福 台北巿忠孝东路一段一七六号九楼
主权项 1.一种喷墨式印表机喷墨头之制造方法,此喷墨头包含复数个墨水槽,用以盛装一墨水;一喷孔片,上有对应于该复数个墨水槽之复数个喷墨孔,用以射出该墨水;一晶片,用以控制该墨水之射出,其步骤系包含:a)于该晶片上涂布一光阻层;b)于该光阻层上进行一微影步骤,以产生该复数个墨水槽;c)将该喷孔片放置于该光阻层上,使其上该复数个喷墨孔对准该复数个墨水槽;以及d)加热该光阻层,使该光阻层黏合该晶片及该喷孔片。2.如申请专利范围第1项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该光阻层之材料系包含一树脂。3.如申请专利范围第2项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该光阻层之材料系为一乾式光阻。4.如申请专利范围第3项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该光阻层厚度系为50m至1000m。5.如申请专利范围第2项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该光阻层之材料系为一液式光阻。6.如申请专利范围第5项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该光阻层之厚度系为0.1m至50m。7.如申请专利范围第1项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该步骤d)系包含一步骤d1)于该喷孔片上施加一压力。8.如申请专利范围第7项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该压力范围系0.01kg/cm2至1kg/cm2。9.如申请专利范围第1项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该加热步骤系以加热板为之。10.如申请专利范围第9项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该加热步骤之温度范围系100℃至250℃。11.如申请专利范围第10项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该加热步骤之时间范围系1分钟至10小时。12.如申请专利范围第1项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该喷孔片系为一金属片。13.如申请专利范围第12项所述喷墨式印表机喷墨头之制造方法,其中该金属片系为一镍片。图式简单说明:第一图:系为典型喷墨头之示意图;第二图:系为第一个中墨水槽之侧剖放大图;第三图:系为习知喷墨式印表机喷墨头之制造方法示意图;以及第四图:系为本案较佳实施例之喷墨式印表机喷墨头之制造方法示意图。
地址 新竹科学园区研发二路二十八号