| 主权项 |
1.一种藉由使水与卤素进行下面所示的化学反应 以制造卤化氢和氧的方法, H2O+X2→2HX+1/2 O2 (1) 其中的X是卤素,其特征为其使用活性碳作为触媒, 及在除去反应系统中之氧的情况下进行上述反应 。2.如申请专利范围第1项之方法,其中,活性碳含 有基础表面官能基。3.如申请专利范围第1项之方 法,其中,活性碳带有铂。4.如申请专利范围第1项 之方法,其中,反应进行期间对反应系统照光。5.如 申请专利范围第1项之方法,其中,事先使卤素吸附 在活性碳上及使吸附于活性碳上的卤素与水于减 压情况下反应。6.如申请专利范围第1项之方法,其 中,将惰性气体通入反应系统中。7.如申请专利范 围第1项之方法,其中,反应期间内,自反应系统中分 离出未反应的水和卤素,且水和卤素于独立的反应 系统中反应。8.如申请专利范围第1项之方法,其中 ,反应期间内,自反应系统中分离出一部分的反应 混合物,自独立系统的反应混合物中分离出未反应 的水和卤素并使未反应的水和卤素回到原来的反 应系统中。9.如申请专利范围第1项之方法,其中, 所用的活性碳是水和卤素之反应中所用的活性碳 及卤化氢分解反应中所用的活性碳交替使用。10. 如申请专利范围第1项之方法,其中,在活性碳上施 以负电压。11.如申请专利范围第1项之方法,其中, 添加不会与反应系统中的卤素或卤化氢产生反应 的还原剂。12.如申请专利范围第1项之方法,其中, 添加不会与反应系统中的卤素或卤化氢产生反应 的氧吸附剂。图式简单说明: 第一图是藉由卤素与水之反应而形成卤化氢时,浓 度变化与时间的关系图。 第二图是实验期间内,含有水、溴和活性碳的反应 槽侧面之照光示意图。 第三图是实验期间内,含有水、溴和活性碳的反应 槽顶面之照光示意图。 第四图是显示在水中通以惰性气体对于卤化氢之 产制率之影响。 第五图是实例8所用的设备图。 第六图是实例9所用的设备图。 第七图是显示连续或交替使用实例10的触媒所产 生之碘化氢浓度。 第八图显示连续或交替使用实例10的触媒时,碘化 氢的分解速率。 第九图是实例11所用的设备图。 第十图是第九图中的碳板的详图。 |
