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发明名称 Method of making a functional device with deposited layers subject to hih temperature anneal
摘要
申请公布号 GB0028822(D0) 申请公布日期 2001.01.10
申请号 GB20000028822 申请日期 2000.11.25
申请人 MITEL CORPORATION 发明人
分类号 G02B6/12;G02B6/132 主分类号 G02B6/12
代理机构 代理人
主权项
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