发明名称 A pellicle for photo process
摘要 <p>본 고안은 반도체소자 제조 공정에 사용되는 페리클에 관한 것으로서, 사각틀체 형상의 몸체와 상기 몸체 상부에 부착되어있는 투명박막의 구성은 유지하되, 몸체의 내측벽에 상기 투명박막과 동일한 재질의 박막을 부착시켜 노광 공정시 동일한 극성의 정전기가 유도되도록 하여 전기장이 몸체의 네모서리 방향으로 휘어지도록 하여 페리클 내부에 발생된 파티클들이 에지 부분에 모이게 하였으므로, 노광공정시 페리클 내부의 파티클이 레티클의 반사방지막으로 손상시키지 않고, 이미지를 변형시키지도 않게 되어 페리클의 교환주기를 증가시킬 수 있어 공정수율이 향상되고, 원가를 절감할 수 있다.</p>
申请公布号 KR20010000139(U) 申请公布日期 2001.01.05
申请号 KR19990009775U 申请日期 1999.06.03
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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