发明名称 CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY USEFUL FOR COPPER SUBSTRATES
摘要
申请公布号 EP1064338(A1) 申请公布日期 2001.01.03
申请号 EP19990912683 申请日期 1999.03.18
申请人 CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION 发明人 KAUFMAN, VLASTA, BRUSIC;KISTLER, RODNEY, C.;WANG, SHUMIN
分类号 C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/321;(IPC1-7):C09G1/02 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人
主权项
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