发明名称 用作填充剂及稳定剂之载体 - 束缚光稳定剂和抗氧化剂
摘要 用作填充剂及稳定剂之载体一束缚光稳定剂和抗氧化剂本发明关于式I,II,III及/或IV之载体-束缚的化合物:CC (III)CC (Ⅵ)CC (III)CC (Ⅵ)其中各个取代基是如申请专利范围第l项中所定义者,其可用作填充剂,及用于稳定有机物质抵抗氧化、热或光导致之降解。
申请公布号 TW416970 申请公布日期 2001.01.01
申请号 TW085105664 申请日期 1996.05.14
申请人 汽巴特用化学品控股公司 发明人 彼特.内斯瓦德巴;安德里亚.克拉玛;阿佛烈.史坦曼;尤克.琴恩;丹尼尔.慕勒
分类号 C08K5/00 主分类号 C08K5/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种以式I、II、III及/或IV化合物涂覆之氧化物-,氧氧化物-,矽酸盐-或碳酸盐-为基础的填充剂,其中R1是叔-丁基,R2是C1-C4烷基,且对于OH基是呈邻位,R3是氢或C1-C4烷基,R4是氢,C1-C4烷基或 ,R5是氢,C1-C4烷基或 ,R6是氢,R7是C10-C12烷基,R9是氢,甲基,C8-C12烷氧基,环己氧基或苄基,R10是或R11是氢,R12是C10-C12烯基,M是钙,X1是乙撑,或由硫所中断的乙撑,X2是氧,X3是甲撑,X4是氧或-NR11-,X5是乙撑或>CH-R12,X6是甲撑,m是1,n是1,p是2,及r是2。2.如申请专利范围第1项之经涂覆填充剂,其中该填充剂是氧化铝,氧化镁,氧化钛,氧化矽,滑石,碳酸钙或白云石。3.如申请专利范围第1项之经涂覆填充剂,其中式I,II,III及/或IV化合物的存在量为从0.01至10%重量百分比(相对于载体的重量)。4.一种组成物,包括a)一对于氧化、热或光导致之降解是敏感之天然,半合成或合成聚合物,及b)至少一如申请专利范围第1项之经涂覆填充剂,其中成份b)的存在量为1至50%(相对于成份(a)重量计算)。5.如申请专利范围第4项之组成物,其除了成份(a)和(b)外,另外包含其它添加剂。6.如申请专利范围第5项之组成物,其包含酚抗氧化剂,光稳定剂及/或加工稳定剂当作其它添加剂。7.如申请专利范围第5项之组成物,其包含至少一选自2-苯并喃酮类的化合物当作其它添加剂。8.如申请专利范围第4项之组成物,其中成份(a)是制纸用之天然,半合成或合成聚合物。9.如申请专利范围第4项之组成物,其中成份(a)是热塑性聚合物。10.如申请专利范围第4项之组成物,其中成份(a)是一聚烯烃。11.如申请专利范围第4项之组成物,其中成份(a)是聚乙烯或聚丙烯。12.如申请专利范围第4项之组成物,其中成份(a)是沥青,地沥青或沥青物质。13.如申请专利范围第1项之经涂覆填充剂,用于当作天然、半合成或合成聚合物的稳定剂抵抗氧化、热或光-导致的降解。14.如申请专利范围第1项之经涂覆填充剂,其是用作热塑性聚合物之加工稳定剂(热稳定剂)。15.一种稳定天然、半合成或合成聚合物抵抗氧化、热或光-导致降解的方法,包括在此物质中加入或施用至少一如申请专利范围第1项之经涂覆填充剂,其中此经涂覆填充剂的存在量为1至50%重量百分比(依据天然、半合成或合成聚合物重量计算)。16.如申请专利范围第15项之方法,其中该经涂覆填充剂在导入天然、半合成或合成聚合物中前,先以如申请专利范围第1项之式I,II,III及/或IV化合物涂覆,其中式I,II,III及/或IV化合物相对于填充剂的量是从0.01至10%重量百分比。
地址 瑞士