| 主权项 |
1.一种如下列化学式的对掌氧氮硼杂环戊烷 其中: R1是氢或(C1-C6)烷基; R2和R3为同向; R2是(C1-C8)烷基; R3是苯基。2.如申请专利范围第1项的化合物,其中R 2是甲基和R3是苯基。3.如申请专利范围第2项的化 合物,其中该化合物是(4R,5S)-4-甲基-5-苯基-1,3,2-氧 氮硼杂环戊烷。4.如申请专利范围第2项的化合物, 其中该化合物是(4S,5R)-4-甲基-5-苯基-1,3,2-氧氮硼 杂环戊烷。5.一种将倾对掌酮类以具有立体选择 性方式还原成实质上为对映异构物上纯粹醇类的 方法,它包括在如化学式(IA)的对掌氧氮硼杂环戊 烷存在下,使该倾对掌酮类和硼烷还原剂作用 , 其中R1A是氢或(C1-C6)烷基; R2A和R3A是同向;R2A是(C1-C8)烷基,苯甲基或选择性被 至多三个(C1-C8)烷基、(C1-C8)烷氧基或卤素基团取 代的苯基;而R3A是(C1-C8)烷基,苯甲基或选择性被至 多三个(C1-C8)烷基、(C1-C8)烷氧基或卤素基团取代 的苯基;假定(a)当R2A和R3A其中有一个是选择性被至 多三个(C1-C8)烷基,(C1-C8)烷氧基或卤素基团取代的 苯基时,R2A和R3A是不相同的,以及(b)当R2A为CH3和R3A 为苯基时,R1A为H。6.一种将倾对掌酮类以具有立体 选择性方式还原成实质上为对映异构物上纯粹醇 类的方法,它包括在有5-10莫耳%如下式对掌氧氮硼 杂环戊烷触媒 , 其中R1为氢或(C1-C8)烷基; D为 存在下,在-78至室温的温度于反应惰性溶剂中使 该倾对掌酮类和2.1氢化物当量的硼烷还原剂作用, 该硼烷还原剂系选自硫化二甲基硼烷错合物、硼 烷四氢喃错合物和邻苯二酚硼烷。7.如申请专 利范围第5项的方法,其中对掌氧氮硼杂环戊烷是 在原处生成。8.如申请专利范围第6项的方法,其中 对掌氧氮硼杂环戊烷是在原处生成。 |
