发明名称 产生具有阶层结构之曝光资料的技术
摘要 一种产生曝光资料的方法包含下列步骤:产生表示相异曝光影像所分享之一共用部份的第一曝光资料;产生表示诸相异曝光影像之间不相同的部份之第二曝光资料;以及定义相对于此第一曝光资料之至少一个非曝光区域,此至少一个非曝光区域对应于诸相异曝光影像之间不相同的部份并且定义无须由此第一曝光资料来执行曝光的一区域。
申请公布号 TW417186 申请公布日期 2001.01.01
申请号 TW088112612 申请日期 1999.07.26
申请人 富士通股份有限公司 发明人 小池和范
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种产生曝光资料的方法,其特征在于包含下列步骤:a)产生表示相异曝光影像所分享之一共用部份的第一曝光资料;b)产生表示该等相异曝光影像之间不相同的部份之第二曝光资料;以及c)定义相对于该第一曝光资料之至少一个非曝光区域,该至少一个非曝光区域对应于该等相异曝光影像之间的该等不相同的部份并且定义无须由该第一曝光资料来执行曝光的一区域。2.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于更包含将该第一曝光资料与该第二曝光资料储存为分离的档案之步骤。3.如申请专利范围第1项之方法,其特征更包含产生表示排列在相异曝光影像内之复数个图胞的图案资料之步骤,且其中该步骤a)包含藉由将该等图胞中所有相异的曝光影像中共同使用之至少一个图胞的图案资料反相来产生该第一曝光资料,以及该步骤b)包含藉由将所有相异的曝光影像中不共同使用之其余图胞中每一个的图案资料反相来产生该第二曝光资料。4.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于该步骤c)包含将该至少一个非曝光区域以其座标加以定义。5.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于该步骤c)包含以至少一个图胞定义该至少一个非曝光区域。6.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于该步骤c)包含以一单一数字定义该至少一个非曝光区域。7.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于更包含除了该等第一与第二曝光资料的档案之外,将该至少一个非曝光区域上之资讯储存成一独立分离档案之步骤。8.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于更包含将该至少一个非曝光区域上之资讯储存于该等第一与第二曝光资料的档案中之步骤。9.一种产生曝光资料的方法,其特征在于包含下列步骤:a)在一档案中设定座标与分配关于该等座标之曝光资料;以及b)在该档案中设定一非曝光区域,该非曝光区域定义无曝光资料会被分配之一区域。10.如申请专利范围第9项之方法,其特征在于该步骤b)包含使用一单一数値来设定该档案中之该非曝光区域之一步骤。11.一种使用曝光资料在一标线上印刷一图样之方法,其特征在于包含下列步骤:产生表示相异曝光影像所分享之一共用部份的第一曝光资料;产生表示该等相异曝光影像之间不相同的部份之第二曝光资料;定义相对于该第一曝光资料之至少一个非曝光区域,该至少一个非曝光区域对应于该等相异曝光影像之间的该等不相同的部份并且定义无须由该第一曝光资料来执行曝光的一区域;使用该第一曝光资料而在该至少一个非曝光区域处未执行曝光地,将该共用部份的一影像印刷于该标线上;以及将该第二曝光资料的影像印刷于该等相异曝光影像之间不相同的该等部份上。12.一种产生曝光资料之装置,其特征在于包含:一中央处理单元;以及储存控制该中央处理单元之一程式的一记忆体,其中依据储存于该记忆体内之该程式而操作之该中央处理单元执行下列步骤:产生表示相异曝光影像所分享之一共用部份的第一曝光资料;产生表示该等相异曝光影像之间不相同的部份之第二曝光资料;以及定义相对于该第一曝光资料之至少一个非曝光区域,该至少一个非曝光区域对应于该等相异曝光影像之间该等不相同的部份并且定义无须由该第一曝光资料来执行曝光的一区域。13.一种使用曝光资料在一标线上印刷一图样之装置,其特征在于包含:一中央处理单元;以及储存控制该中央处理单元之一程式的一记忆体,其中依据储存于该记忆体内之该程式而操作之该中央处理单元执行下列步骤:产生表示相异曝光影像所分享之一共用部份的第一曝光资料;产生表示该等相异曝光影像之间不相同的部份之第二曝光资料;定义相对于该第一曝光资料之至少一个非曝光区域,该至少一个非曝光区域对应于该等相异曝光影像之间不相同的部份并且定义无须由该第一曝光资料来执行曝光的一区域;使用该第一曝光资料而在该至少一个非曝光区域处未执行曝光地,将该共用部份的一影像以与该等相异曝光影像相当的次数印刷于该标线上;以及将该第二曝光资料的影像印刷于该等相异曝光影像之间不相同的该等部份上。图式简单说明:第一图至第三图A-第三图F为显示使用一CAD装置来设计一标线的一种程序之说明图示;第四图A为基于图案资料来产生曝光资料的方法之流程;第四图B是解说图案资料之反相的说明图;第五图为显示图案资料透过图案资料的反相而被转换成曝光料之方法的流程方块图;第六图为显示一种产生图案资料之方法的流程;第七图A至第七图F是显示在第六图之每一步骤时排列图案资料的方法之说明图式;第八图A为每一图胞被个别处理时根据图案资料而产生曝光资料的流程图;第八图B是用以解说图案资料的图胞反相以产生曝光资料的一种说明图式;第九图为显示当每一图胞被个别处理时每一图胞之图案资料被转换成曝光料的方法之一种流程方块图;第十图为显示产生曝光资料之过程中一资料流程的一说明图式;第十一图为显示被用来设计图样布局之一CAD装置概略配置之方块图;第十二图为显示被用来将图妹资料转换成曝光资料之一影像处理装置的概略配置之方块图;第十三图为依照本发明一实施例一种产生图案资料之方法的流程图;第十四图A至第十四图F为显示在第十三图之每一步骤时产生图案资料的方法之说明图式;第十五图为显示根据座标之一非曝光区域的定义之说明图式;第十六图A为根据含有一非曝光区域之图案资料在产生曝光资料的过程之流程图;第十六图B为用以解释图案资料中具有一非曝光区域时此曝光资料的产生之说明图式;以及第十七图为显示此图案资料具有一非曝光资料时每一个图胞的图案资料被转换成曝光资料之方法的流程示图。
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