发明名称 BATH SYSTEM FOR GALVANIC DEPOSITION OF METALS
摘要 Die Erfindung betrifft ein Badsystem zur galvanischen Abscheidung von Metallen enthaltend mindestens ein Metall, insbesondere in Form eines Edelmetalles und/oder einer Edelmetall-Legierung in Form eines wasserlöslichen Salzes, mindestens einen wasserlöslichen Eiweissstoff und/oder mindestens eine wasserlösliche Sulfonsäure und mindestens einen wasserlöslichen nitrohaltigen Stoff und mindestens ein wasserlösliches Tensid und mindestens ein Vitamin. Mit dem erfindungsgemässen Badsystem lassen sich hochwertige Schichten gleichbleibender Qualität galvanostatisch auftragen, wobei das Badsystem freigehalten werden kann von schädlichen Stoffen, wie Cyaniden, Sulfiten und harten Komplexbildnern.
申请公布号 WO0079030(A1) 申请公布日期 2000.12.28
申请号 WO2000EP05287 申请日期 2000.06.08
申请人 HOFFACKER, GERHARD 发明人 HOFFACKER, GERHARD
分类号 C25D3/46;C25D3/48;(IPC1-7):C25D3/46 主分类号 C25D3/46
代理机构 代理人
主权项
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