| 发明名称 |
Photoresist composition, preparation method and method for forming a pattern during semiconductor processing |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2351353(A) |
申请公布日期 |
2000.12.27 |
| 申请号 |
GB20000007776 |
申请日期 |
2000.03.30 |
| 申请人 |
* SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
SANG MUN * CHON;YOUNG HO * KIM;HOE SIK * CHUNG;BOO SUP * LEE |
| 分类号 |
G03F7/022;C07C309/26;G03F7/004;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/022 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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