| 摘要 |
<p>L'invention se rapporte à un organe d'admission à faible chute de pression destiné à un absorbeur (20) doté de parois droites, qui possède un plateau perforé (50) positionné au-dessus de l'orifice d'admission (34) des gaz entre les parois de l'absorbeur (20). Une bague disposée autour du bord externe du plateau manque de perforations ou ses perforations sont recouvertes. Un rebord d'égouttement (52) peut être positionné sur le fond du plateau autour du bord interne de la bague non perforée. Des déflecteurs (60) sont également disposés au-dessus du plateau. Ces déflecteurs (60) peuvent être disposés entre les parois de l'absorbeur (20) ou ils peuvent n'occuper que l'espace situé au-dessus des perforations (56) du plateau, et il est possible de faire varier la dimension des perforations du plateau (56) pour réguler la chute de pression globale. Un absorbeur (20) fabriqué conformément à cette invention est caractérisé par une faible chute de pression au niveau de son orifice d'admission (34) des gaz.</p> |
