| 主权项 |
1.一种疏水性二氧化矽的制造方法,包括:在常温下,将亲水性二氧化矽固体粉末、矽油、分散剂、触媒及分子量调节剂加以混合,约5至20分钟;升温至60℃至80℃,持续混合,约30分钟至120分钟,以反应形成疏水性二氧化矽;以溶剂萃洗并过滤上述疏水性二氧化矽;去除该溶剂及剩余之反应物,其中该矽油之常温黏度在50至1000cps之间,该分散剂为择自由矿物油、有机溶剂及辛甲基丁矽环氧烷所组成之族群中,该触媒是路易士酸或路易士硷,该分子量调节剂为含甲基取代基之二矽氧烷化合物,且其中亲水性二氧化矽固体粉末、矽油、分子量调节剂的重量比为2-3:1:0.005-0.2,分散剂为上述三种反应物总重量的2-4倍,触媒为上述三种反应物总重量的0.1-1%。2.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该亲水性二氧化矽固体粉末之接触角小于70度。3.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该亲水性二氧化矽固体粉末之表面积为每克100至400平方公尺。4.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该触媒系氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸铵或硫酸。5.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该分子量调节剂系六甲基二矽氧烷、五甲基二矽氧烷或四甲基工矽氧烷。6.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该混合系以均质机完成。7.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该溶剂系二甲苯。8.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该去除溶剂及剩余反应物的方法,系于120℃烘箱乾燥6小时。9.一种疏水性二氧化矽的制造方法,包括:在常温下,将亲水性二氧化矽固体粉末、矽化合物单体、触媒及分子量调节剂加以混合,约5至20分钟;升温至反应物的沸点,继续混合,并回流10至30分钟,以反应形成疏水性二氧化矽;以溶剂萃洗并过滤上述疏水性二氧化矽;去除该溶剂及剩余之反应物,其中该矽化合物单体为四甲基二矽氧烷,该触媒为路易士酸或路易士硷,该分子量调节剂为含甲基取代基之二矽氧烷化合物,且其中亲水性二氧化矽固体粉末、矽化合物单体、分子量调节剂的重量比为1:2-5:0.005-0.2,触媒为上述三种反应物总重量的0.1-1%。10.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该亲水性二氧化矽固体粉末之接触角小于70度。11.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该亲水性二氧化矽固体粉末之表面积为每克100至400平方公尺。12.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该触媒系氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸铵或硫酸。13.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该分子量调节剂系六甲基二矽氧烷、五甲基二矽氧烷或四甲基二矽氧烷。14.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该混合系以均质机完成。15.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该溶剂系二甲苯。16.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该去除溶剂及剩余反应物的方法,系于120℃烘箱乾燥6小时。 |
