发明名称 APPARATUS FOR PREVENTING PARTICLE OF SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING SYSTEM
摘要 <p>본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 세정장비의 이물 방지장치에 관한 것으로, 본 고안의 이물 방지장치는 보트의 상면에 웨이퍼를 지지하기 위한 슬롯을 다수개 형성하되, 그 각각의 슬롯 사이마다에는 이웃하는 웨이퍼의 대향면으로 이물이 전이되는 것을 방지하는 버퍼막을 구비함으로써, 웨이퍼 세정중 그 표면에서 떨어지는 이물이 다른 웨이퍼에 다시 붙지 않도록 하여 웨이퍼의 세정불량 및 특성저하를 미연에 방지할 수 있다.</p>
申请公布号 KR20000020750(U) 申请公布日期 2000.12.15
申请号 KR19990008132U 申请日期 1999.05.13
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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