| 发明名称 |
Werkwijze en inrichting voor het vormen van een oxidelaag op wafers vervaardigd uit halfgeleidermateriaal. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
NL1013667(C2) |
申请公布日期 |
2000.12.15 |
| 申请号 |
NL19991013667 |
申请日期 |
1999.11.25 |
| 申请人 |
ASM INTERNATIONAL N.V. |
发明人 |
ERIK WIERTS;WILLEM JOB CORNELIS VERMEULEN;JACOBUS JOHANNES BEULENS;BENGT PHILIPPSEN |
| 分类号 |
C23C16/40;C23C16/448;C23C16/52;H01L21/00;H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
C23C16/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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