首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PLASMA ETCHING SYSTEM
摘要
申请公布号 KR100276093(B1) 申请公布日期 2000.12.15
申请号 KR19930021693 申请日期 1993.10.19
申请人 TOKYO ELECTRON YAMANASHI LIMITED;TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 TOMITA, KAZUSHI;ITO, YOSHIKAZU;HIRAND, MOTOHIRO;NOZAWA, AKIRA;MATSUO, HIROMIRSU;IIMURO, SHUNICHI;TOZAWA, SHIGEKI;SHIGEKI, MIURA
分类号 H01J37/32;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com