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发明名称
Grundbeschichtungszusammensetzung für photolithographischen Resist
摘要
申请公布号
DE69702422(T2)
申请公布日期
2000.12.14
申请号
DE19976002422T
申请日期
1997.04.18
申请人
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人
SATO, MITSURU;OOMORI, KATSUMI;IGUCHI, ETSUKO;ISHIKAWA, KIYOSHI;KANEKO, FUMITAKE
分类号
G03F7/11;C09K3/00;G03F7/09;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/09
主分类号
G03F7/11
代理机构
代理人
主权项
地址
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