发明名称 用于半导体记忆装置之雷射熔线盒的互连配置
摘要 在半导体记忆装置之雷射熔线盒的互连配置中,该半导体记忆体装置包括一雷射熔线群其内含许多第一雷射熔线,每一熔线皆有窄的第一端,较宽的第二相对端及弯曲的中间部份;许多第一雷射熔线第一端的间距是窄的,第二端的间距是宽的,而许多的第一雷射熔线彼此相邻。而一第二雷射熔线群包括许多第二雷射熔线,每一熔线皆有宽的第一端,较窄的第二端及弯曲的中间部份;许多第二雷射熔线第一端的间距是宽的,第二端的间距是窄的,许多的第二雷射熔线彼此相邻。其中在第一雷射熔线群中雷射熔线的第一端和第二雷射熔线群中雷射熔线的第一端彼此相邻,第一雷射熔线群中雷射熔线的第二端和第二雷射熔线群中雷射熔线的第二端彼此相邻,而第一和第二雷射熔线群最外面雷射熔线的中间部份并没有弯曲,反而是直的。因此,半导体记忆装置的密度增加了。
申请公布号 TW415066 申请公布日期 2000.12.11
申请号 TW088106524 申请日期 1999.04.23
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 李镐哲
分类号 H01L23/62 主分类号 H01L23/62
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种半导体装置,其系在半导体记忆装置的雷射熔线盒之互连配置中,该半导体记忆装置包括:一第一雷射熔线群,其包括许多的第一雷射熔线,每一熔线皆有一窄的第一端,较宽的第二相对端;及弯曲的中间部份,该许多的第一雷射熔线第一端的间距是窄的,第二端的间距是宽的,而该许多的第一雷射熔线彼此相邻;及一第二雷射熔线群,其包括许多的第二雷射熔线,每一熔线皆有一宽的第一端,较窄的第二相对端,及弯曲的中间部份,该许多的第二雷射熔线第一端的间距是宽的,第二端的间距是窄的,而该许多的第二雷射熔线彼此相邻,其中该第一雷射熔线群中雷射熔线第一端与该第二雷射熔线群中雷射熔线第一端相邻,该第一雷射熔线群中雷射熔线第二端与该第二雷射熔线群中雷射熔线第二端相邻,而该第一和第二电射熔线群最外面雷射熔线不是弯曲的,而是直的。2.如申请专利范围第1项之半导体记忆装置,其中雷射熔线是以多晶矽形成。3.如申请专利范围第1项之半导体记忆装置,其中雷射熔线是在平面上排列。4.如申请专利范围第1项之半导体记忆装置,其中该第一雷射熔线群中雷射熔线烧断部位是在该许多的第一雷射熔线之第二端。5.如申请专利范围第1项之半导体记忆装置,其中该第二雷射熔线群中雷射熔线烧断部位是在该许多的第二雷射熔线之第一端。6.如申请专利范围第1项之半导体记忆装置,其中该第一和第二雷射熔线群是交替重覆排列。7.如申请专利范围第1项之半导体记忆装置,其中该雷射熔线盒是一备用熔线盒以便备用记忆体胞取代损坏的记忆体胞。
地址 韩国