发明名称 搬运装置及使用该搬运装置之纵型热处理系统
摘要 纵型热处理系统,系有一为了搬运半导体晶圆片 W及作为其搬运容器之卡匣C的搬运装置(9)。而搬运装置(9)具有一基座(8),系配设呈可于上下方向移动,且可在水平面内旋转者。且于基座(8)上,配设着一用以在装载着晶圆片W之状态下搬运晶圆片的移动臂(25、26)。而晶圆片移动臂(25、26)系于基座上且可水平的往返移动于待机位置与进出位置之间。且于基座(8)上,另外配设着一用以在装载着卡匣C之状态下搬运的卡匣C移动臂(27)。而卡匣C移动臂(27)于基座上且可水乎的往返移动于退避位置与突出位置之间。晶圆片移动臂(25、26)是在与卡匣C移动臂(27)相对且于互相相反之方向进行进出及退避。并于晶圆片移动臂(25、26)与卡匣C移动臂(27)分别位于待机位置及退避位置上之状态时,卡匣C移动臂(27)之卡匣固持部(27b)系存在于晶圆片移动臂(25、26)之正上方。
申请公布号 TW414934 申请公布日期 2000.12.11
申请号 TW086113132 申请日期 1997.09.10
申请人 东京威力科创有限公司 发明人 高桥喜一;菊池浩
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种搬运装置,包含:一呈可于上下方向移动且可于水平面内旋转地配设着的基座;一用以在接触于一层于实质上有相同轮廓尺寸之基板群的单一基板之状态下搬运前述基板而配设于前述基座的基板移动臂,该前述基板移动臂具有一安装于前述基座上的根部与一为了支持前述基板而从前述根部延伸出的支持部;一用以使前述基板移动臂于前述基座上水平的往返移动于待机位置与进出位置之间的第1驱动机构;一用以在接触于为了储存层于前述群之复数基板的容器之状态下搬运前述容器而配设于前述基座上的容器移动臂,该前述容器移动臂具有一安装于前述基座的基端部与一为了固持前述容器而从前述基端部延伸出的固持部;及,一用以使前述容器移动臂于前述基座上水平的往返移动于退避位置与突出位置之间的第2驱动机构;而,从前述基板移动臂之前述待机位置朝向前述进出位置之方向与从前述容器移动臂之前述退避位置朝向前述突出位置之方向实质上是相反的,且在前述基板移动臂与前述容器移动臂分别位于前述待机位置与前述退避位置之状态时,前述容器移动臂之前述固持部系存在于前述基板移动臂之正上方。2.如申请专利范围第1项之搬运装置,其中前述基板移动臂是在装载着前述基板之状态下搬运基板。3.如申请专利范围第2项之搬运装置,其中前述容器移动臂是在装载着前述容器之状态下搬运容器。4.如申请专利范围第1项之搬运装置,于前述基板移动臂及前述容器搬运臂分别位于前述待机位置及前述退避位置之状态时,前述基板移动臂之前述根部与前述容器搬运臂之前述基端部,是在挟持着基座之旋转轴的位置。5.如申请专利范围第1项之搬运装置,于前述基板移动臂及前述容器搬运臂分别位于前述待机位置及前述退避位置之状态时,固持于前述容器搬运臂之前述容器系存在于支持在前述基板搬运臂之前述支持部上的前述基板之平面轮廓的范围外。6.如申请专利范围第1项之搬运装置,于前述容器移动臂位于前述退避位置之状态时,固持于前述容器搬运臂之前述容器系存在于前述基座之平面轮廓之范围内。7.如申请专利范围第1项之搬运装置,其中前述第1搬运机构具有:一配设于前述基座内且可两方向旋转的无端环带;及,一为连接前述无端环带之上面与前述基板移动臂之前述根部,而由前述根部沿着前述两方向延伸一狭窄长度的连接器。8.如申请专利范围第1项之搬运装置,其中前述第2搬运机构具有:一配设于前述基座内且可两方向旋转的无端环带;及,一为连接前述无端环带之上面与前述容器移动臂之前述基端部,而由前述基端部沿着前述两方向延伸一狭窄长度的连接器。9.如申请专利范围第1项之搬运装置,具有一与前述基板移动臂同等效果的第2基板移动臂,且第2基板移动臂系与前述基板移动臂呈一体的移动。10.如申请专利范围第1项之搬运装置,具有一与前述基板移动臂同等效果的第2基板移动臂,且第2基板移动臂系与前述基板移动臂分开的单独移动。11.一种纵型热处理系统,包含:(a)用以储存属于实质上有相同轮廓尺寸基板之群的复数基板并一齐施以热处理的热处理炉,于该热处理炉内,前述基板系以互相间隔堆积之状态而被支持于承载皿上;(b)用以将前述基板与前述承载皿,一起搬运于前述热处理炉内之位置与前述热处理炉外之移动装载部间的承载皿搬运机构;(c)用以将储存属于前述群之复数基板的容器向前述系统搬出搬入的搬入/搬出部;(d)用以在前述系统内配置前述容器的容器配置部;及,(e)为了在前述搬入/搬出部与前述容器配置部之间搬运前述容器以及为了在配置于前述容器配置部之容器与配置于前述移动装载部之承载皿间搬运前述基板的搬运装置;而前述搬运装置则包含:一呈可于上下方向移动且可于水平面内旋转地配设着的基座;一用以在接触于属于前述群的单一基板之状态下搬运前述基板而配设于前述基座上的基板移动臂,该前述基板移动臂具有:一安装于前述基座的根部与一为了支持前述基板而从前述根部延伸出的支持部;及,一用以使前述基板移动臂于前述基座上水平的往返移动于待机位置与进出位置之间的第1驱动机构;一用以在接触于前述容器之状态下搬运前述容器而配设于前述基座上的容器移动臂,该前述容器移动臂具有一安装于前述基座的基端部与一为了固持前述容器而从前述基端部延伸出的固持部;及,一用以使前述容器移动臂于前述基座上水平的往返移动于退避位置与突出位置之间的第2驱动机构;而,从前述基板移动臂之前述待机位置朝向前述进出位置之方向实质上是与从前述容器移动臂之前述退避位置朝向前述突出位置之方向相反,且在前述基板移动臂与前述容器移动臂分别位于前述待机位置与前述退避位置之状态时,前述容器移动臂之固持部系存在于前述基板移动臂之正上方。12.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,其中前述基板移动臂是在装载着前述基板之状态下搬运前述基板。13.如申请专利范围第12项之纵型热处理系统,其中前述基板移动臂是在装载着前述基板之状态下搬运前述容器。14.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,其中前述基板移动臂及前述容器移动臂分别位于前述待机位置及前述退避位置之状态时,前述基板移动臂之前述根部与前述容器搬运臂之前述基端部是在挟持着基座之旋转轴的位置。15.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,于前述基板移动臂及前述容器搬运臂系分别位于前述待机位置及前述退避位置之状态时,固持于前述容器搬运臂之前述容器系存在于支持在前述基板搬运臂之前述支持部的前述基板之平面轮廓的范围外。16.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,于前述容器移动臂位于前述退避位置之状态时,使被固持于前述容器搬运臂之前述容器系存在于前述基座之平面轮廓之范围内。17.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,其中前述第1搬运机构具有:一配设于前述基座内且可两方向旋转的无端环带;及,一为连接前述无端环带之上面与前述基板移动臂之前述根部,而由前述根部沿着前述两方向延伸一狭窄长度的连接器。18.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,其中前述第2搬运机构具有:一配设于前述基座内且可两方向旋转的无端环带;及,一为连接前述无端环带之上面与前述容器移动臂之前述基端部,而由前述基端部沿着前述两方向延伸一狭窄长度的连接器。19.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,具有前述基板移动臂与同等效果的第2基板移动臂,且第2基板移动臂系与前述基板移动臂呈一体的移动。20.如申请专利范围第11项之纵型热处理系统,具有前述基板移动臂与同等效果的第2基板移动臂,且第2基板移动臂系与前述基板移动臂分开的单独移动。图式简单说明:第一图系显示有关本发明之实施形态之搬运装置的重要部位侧面图。第二图系显示使用第一图所示之搬运装置的纵型热处理系统之概略构成的侧面截面图。第三图系第二图所示之处理系统的平面截面图。第四图系沿着第三图之IV-IV线的扩大截面图。第五图系第一图所示之搬运装置基座之概略平面图。第六图系沿着第五图之VI-VI线的截面图。第七图系沿着第五图之VII-VII线的截面图。第八图系沿着第五图之VIII-VIII线的截面图。第九图系第七图的IX部扩大图。第十图系第八图的X部扩大图。
地址 日本