| 发明名称 |
Chemical-mechanical polishing slurry for metal layers and films and method for polishing same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IL120753(A) |
申请公布日期 |
2000.12.06 |
| 申请号 |
IL19970120753 |
申请日期 |
1997.05.01 |
| 申请人 |
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION |
发明人 |
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| 分类号 |
B24C1/08;B24C11/00;C09G1/02;C23F3/00;H01L21/321;(IPC1-7):C09G1/02 |
主分类号 |
B24C1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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