发明名称 晶体管及其制造方法
摘要 一种制造薄膜晶体管的方法,该方法包括:使非晶硅膜结晶化;在其上形成栅绝缘膜和栅电极、以自对准方式注入杂质,粘附一含有加速硅膜结晶化的催化元素的被覆层,以及将所得结构在低于衬底变形温度的温度下退火,以激活已掺入的杂质。按另一方案,可用离子注入法或类似法将催化元素引入杂质区而掺入该结构。
申请公布号 CN1275813A 申请公布日期 2000.12.06
申请号 CN98116321.1 申请日期 1994.03.12
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 张宏勇;高山彻;竹村保彦
分类号 H01L29/786;H01L21/336 主分类号 H01L29/786
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 叶恺东;王岳
主权项 1.一种薄膜晶体管,包括:一半导体膜,由在绝缘表面上形成的硅构成;一沟道区,在所述半导体膜内形成;和源区和漏区,在所述半导体膜内形成,所述沟道区即夹在所述源区与漏区之间,各所述源区和漏区的导电类型彼此相同;其特征在于,所述源区和漏区含催化元素,供催化硅的晶化过程用;且所述催化元素在所述沟道区的浓度比在所述源区和漏区的浓度低。
地址 日本神奈川县