| 主权项 |
1.一种表面导向器之型式之用以激发一气体的装 置,该装置系包括有一用以形成一波导之中 空结构(24)系藉由一种导电材料所制成,该中空结 构(24)系可被连接到一微波发送器之上, 并且系被形成具有一通道(38),一中空绝缘管(40)系 可穿过该通道(38)之中,该将要被激发 的气体系可流经该中空绝缘管(40)之中,并具有一 聚波区域(30)系被设计成可在该装置的作 动过程之中用以将该微波发送器所产生的微波辐 射聚集到该中空绝缘管(40)之上,其目的系 用以在该气体之中产生一表面波电浆,其特征在于 ,该装置系更进一步包括有至少一藉由一 导电材料所制成的电磁屏幕套管(42,44)系被夹固于 该中空结构(24)上,并且系沿着该通道 (38)的延伸方向而延伸,以便能够包围该中空绝缘 管(40)。2.如申请专利范围第1项之中所述的装置, 其特征在于,该用以形成一波导的中空结构(24) 系大致具有一纵向形状,并包括有一第一开口端(26 )其目的系可被连接到该微波发送器之上 ,一相对的开口端(28)其目的系可被装设具有一用 以形成一短路之机构,以及一具有较窄横 切面之区域(30)系延伸介于该第一开口端(26)以及 该第二开口端(28)之间,并用以界定该聚 波区域(30)。3.如申请专利范围第2项之中所述的装 置,其特征在于,该具有较窄横切面的区域(30)系包 括有一具有固定横切面之中心部分(32)系被装配具 有该通道(38)系延伸介于两部分(34,36) 之间,其中该两部分(34,34)所具有的横切面系朝向 该两端部(26,28)而呈线性递增。4.如申请专利范围 第1到3项中之任一项所述的装置,其特征在于,该至 少一套管(42,44)系 具有一长度系至少等于该气体之中所产生的电浆 之长度。5.如申请专利范围第4项之中所述的装置, 其特征在于,该每一套管(42,44)的自由端系具 有一凸缘(50)系被形成有一穿孔(52)而可供该中空 绝缘管(40)通过。6.如申请专利范围第4项所述的装 置,其特征在于,该至少一套管(42,44)系具有一长度 系 等于该气体之中所产生的电浆之长度以及该微波 辐射在真空状态所具有的波长之总和。7.如申请 专利范围第1到3项中之任一项所述的装置,其特征 在于,该至少一套管(42,44)的 管壁系被形成有至少一穿孔(54)系用以检视该电浆 ,其中该穿孔(54)的尺寸系被设计成能够 防止该入辐射的穿透。8.如申请专利范围第1到3项 中之任一项所述的装置,其特征在于,该至少一套 管(42,44)系 具有一大致为圆柱形的横切面系至少等于该中空 圆管(40)之横切面的两倍。9.如申请专利范围第3项 所述的装置,其特征在于,该装置系包括有两套管( 42,44)系在该 中心部分(32)之每一侧上彼此相对地沿着其延伸方 向而延伸。10.如申请专利范围第9项之中所述的装 置,其特征在于,该每一套管(42,44)系包括有一端 部装配板(46),该每一装配板(46)系侧向延伸超过该 中心部分(32),其目的系藉由螺栓将该 等装配板(46)结合在一起而能够用以将该两套管(42 ,44)固定于该中空结构(24)上。11.如申请专利范围 第1项所述的装置,其特征在于,该通道(38)的直径系 大于该中空绝缘管 (40)的外径。12.一种用以处理一气体之设备,系包 括有一用以激发该气体之装置(22),该装置(22)系被 连接到一微波发送器之上,并且一中空绝缘管(40) 系穿过该装置(22)之中,该将要被激发的 气体系流经该中空绝缘管(40)之中,该装置(22)系包 括有一机构(30)系用以将该微波发送器 所产生的微波辐射聚集到该中空绝缘管(40)之上, 以便能够在该气体之中产生一大气电浆, 而能够用以将该将要被处理的气体之中的分子离 子化,并且用以激发该等气体分子,其目的 系用以形成气体反应化合物,该设备系更进一步地 包括有至少一单元(66,68)系用以处理该 等气体反应化合物,该等单元(66,68)系被放置于该 中空绝缘管(40)的下端部之上,其特征 在于,该用以激发该气体的装置(22)系藉由如申请 专利范围第1到11项中之任一项所述的激 发装置所构成。图式简单说明: 第一图系为一种传统型式的表面导向器之一外观 示意图。 第二图和第三图系为图表系用以显示出第一图之 中所示的表面导向器以及一种表面加速 导向器之分别的效率。 第四图系为根据本发明的激发装置之一示意的侧 视图。 第五图系为第四图之中所示的激发装置之一顶视 图。 第六图系为一种设备之一示意图,其中该设备系藉 由使用如第四图和第五图之中所示的 激发装置而能够用以处理一气体。 第七图系为一图表系用以显示出根据本发明的激 发装置以及第一图之中所示的表面导向 器之分别的效率。 |
