| 发明名称 |
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100272848(B1) |
申请公布日期 |
2000.12.01 |
| 申请号 |
KR19970018381 |
申请日期 |
1997.05.13 |
| 申请人 |
ANELVA CORPORATION |
发明人 |
IKEDA, KEI;KOBAYASHI, AKIKO |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;H01L21/205;H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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