| 发明名称 |
SELF-ALIGNED POCL3 PROCESS FLOW FOR SUBMICRON MICROELECTRONICS APPLICATION USING AMORPHIZED POLYSILICON |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100271265(B1) |
申请公布日期 |
2000.12.01 |
| 申请号 |
KR19970033200 |
申请日期 |
1997.07.16 |
| 申请人 |
NATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION |
发明人 |
NAME, ABDALLA A. |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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