| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING SELF ALIGNED VIAS IN MULTI LEVEL METAL INTEGRATED CIRCUIT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100272499(B1) |
申请公布日期 |
2000.12.01 |
| 申请号 |
KR19980031504 |
申请日期 |
1998.08.03 |
| 申请人 |
NATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION |
发明人 |
KITCH, VASSILI |
| 分类号 |
H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/76 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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