Bleisilicatglas, dessen Verwendung sowie ein Verfahren zur Einstellung eines erniedrigten Oberflächenwiderstandes des Bleisilicatglases

摘要

Die Erfindung betrifft ein Bleisilicatglas, dessen Verwendung zur Herstellung von Sekundärelektronenvervielfachern sowie ein Verfahren zur Einstellung eines erniedrigten Oberflächenwiderstandes eines solchen Bleisilicatglases. Das Bleisilicatglas weist dabei folgende Zusammensetzung (in Gew.-%) auf: SiO¶2¶ 15-35, PbO 35-55, Bi¶2¶O¶3¶ > 20-29, BaO 0-10, Cs¶2¶o 0-10, BaO + Cs¶2¶O 2-13, CaO 0-10, SrO 0-10, CaO + SrO + BaO 0-10 sowie bis zu 1 Gew.-% an üblichen Läutermitteln. Der Oberflächenwiderstand des Bleisilicatglases beträgt nach Reduktion in Wasserstoffatmosphäre 0,1 bis 60 MOMEGA/sq.