| 摘要 |
<p>본 발명은 전기적 전도서 벽을 갖는 에칭 챔버 및 상기 챔버의 내부에 마주하는 벽의 일부를 형성하는 보호층을 구비하는 RF 플라즈마 에칭 반응기에 관한 것이다. 상기 보호층은 챔버내에 형성된 플라즈마에 의한 챔버 벽으로부터 재료의 스퍼터링을 방지한다. 또한 상기 에칭 반응기는 에칭 챔버내에 배치되어 유도 결합에 의해 플라즈마를 발생하는데 사용되는 유도 코일 안테나를 갖는다. 챔버 벽처럼, 상기 유도 코일 안테나는 플라즈마에 의한 안테나 형성 재료의 스퍼터링을 방지하도록 구성된다. 상기 코일 안테나는 챔버내의 요구된 파워 증착 패턴을 얻는데 필요한 어떤 구성(예를 들면, 위치, 형상, 방향)을 취할 수 있다. 요구된 파워 증착 패턴을 얻기 위한 가능한 코일 안테나 구성의 보기는 단일체 또는 세그먼트 구조를 갖는 코일 안테나의 구성을 포함한다. 상기 세그먼트 구조는 적어도 2개의 코일 세그먼트의 사용을 포함하고, 각각의 세그먼트는 다른 세그먼트로부터 전기적으로 절연되고 개별 RF 파워 신호에 연결된다. 단일 코일 안테나 또는 각각의 코일 세그먼트는 플래너형, 실린더형, 절단된 원뿔형, 돔형, 또는 어떤 이들의 조합을 가질 수 있다. 상기 전도성 벽은 제품의 표면에 바이어스 전압을 형성하기 위해 RF 파워 소스에 연결되는 제품 지지용 페데스탈을 위한 전기적 접지(예를 들면, 애노드)로서 소용되도록 전기적으로 접지된다.</p> |
