| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체 웨이퍼 식각장치에 관한 것으로, 케미컬(11)이 수납되는 내,외부베스(12)(13)와, 웨이퍼(14)를 탑재하기 위한 카세트(15)와, 상기 내,외부베스(12)(13)에 수납되는 케미컬(11)을 순환시키기 위한 케미컬순환수단(16)으로 구성되어, 웨이퍼들이 탑재된 카세트를 내부베스의 내측에 위치시킨 상태에서 내,외부베스의 케미컬을 케미컬순환수단으로 순환시키면서 식각을 진행함으로서, 장시간 식각작업을 실시하여도 케미컬의 농도를 항상 일정하게 유지할 수 있다.</p> |
