| 摘要 |
<p>본 발명은 알칼리 매질 중에서 현상할 수 있고 340 내지 390㎚의 파장에서 광 조사에 민감하며 상기 언급된 파장 범위에 대한 포지티브 및 네가티브 감광성 내식막을 상응하게 구성하는 화학적으로 증폭된 감광성 내식막에서 감광성 산 발생제로서의 화학식 1의 옥심 알킬 설포네이트의 용도에 관한 것이다. 화학식 1 상기식에서, R은 나프틸,또는이고; R는 R-X 그룹 또는 R이고; X는 직접 결합, 산소 원자 또는 황 원자이고; R은 수소, C-C-알킬 또는 비치환되거나 클로로, 브로모, C-C-알킬 및 C-C-알킬옥시로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 치환기에 의해 치환되는 페닐 그룹이고; R는 수소 또는 C-C-알킬이며; R은 비치환되거나 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되는 직쇄 또는 측쇄 C-C-알킬이다.</p> |
