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发明名称
ANISOTROPIC NITRIDE ETCHING HAVING HIGH SENSITIVITY WITH RESPECT TO OXIDE AND PHOTORESIST LAYER
摘要
申请公布号
KR20000071774(A)
申请公布日期
2000.11.25
申请号
KR1020000021292
申请日期
2000.04.21
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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