发明名称 Radiation-sensitive resist composition with high heat resistance
摘要 <p>본 발명은 고내열성 내식막 화상을 형성할 수 있는 고감도의 감광성 내식막 조성물에 관한 것이다. 이러한 감광성 내식막 조성물은 내식막 재료와 함께, 크실릴렌 화합물(a), 살리실산(b), 및 9,9'-비스(하이드록시페닐)-플루오렌 또는 3,3,3',3'-테트라메틸-2,3,2',3'-테트라하이드로-(l,1')-스피로비인덴의 디올을 반응시켜 수득된, 중량 평균 분자량이 1000 내지 5000이고 Tg가 100 내지 150℃인 중합체를 함유한다. (c)의 예로서는 9,9'-비스-(4-하이드록시페닐)-플루오렌, 3,3,3',3'-테트라메틸-2,3,2',3'-테트라하이드로-(1,1')-스피로비인덴-6,6'-디올을 들 수 있다. 내식막 재료로는 포지티브형 및 네가티브형 내식막 중의 어느 것이든 사용가능하지만, 알칼리 가용성 수지와 퀴논디아지드 감광제로 이루어진 내식막 재료를 사용하는 것이 바람직하다.</p>
申请公布号 KR20000068366(A) 申请公布日期 2000.11.25
申请号 KR19997001590 申请日期 1999.02.26
申请人 发明人
分类号 G03F7/022;C08G61/02;C08L61/00;C08L65/00;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/038;G03F7/039 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
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