发明名称 SINGLE CRYSTAL SiC AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME
摘要 본 발명은 α-탄화규소 단결정기재(1)의 표면에 PVD법 또는 열 CVD법에 의해 10μm 이상 두께의 β-탄화규소 다결정판(2)에 막을 형성하여 생성된 복합체(M)을 1650∼2400℃ 범위의 온도에서 열처리하여 β-탄화규소 다결정판(2)의 다결정체를 단결정으로 변태시켜 α-탄화규소 단결정기재(1)의 결정축과 동일한 방위로 배향된 단결정을 성장시키므로서, 마이크로파이프결함 및 이에 영향을 받은 결함이 거의 없는 고품위의 단결정 탄화규소를 용이하고 효율적으로 제조할 수 있게한 것이다.
申请公布号 KR20000068097(A) 申请公布日期 2000.11.25
申请号 KR19997001109 申请日期 1999.02.10
申请人 null, null 发明人 다니노기치야
分类号 C30B1/02;C30B23/02;C30B25/02;C30B29/36;C30B33/00;H01L21/20 主分类号 C30B1/02
代理机构 代理人
主权项
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