SYSTEM FOR RECEIVING AND RETAINING A SUBSTRATE

摘要

Die Erfindung bezieht sich auf ein Übernahme- und Haltesystem für ein Substrat (17) in einer Belichtungsanlage, die mit einem Handlingsystem zur Zuführung des Substrates (17), mit einer in den Koordinaten X,Y verfahrbaren elektrostatischen Chuckanordnung (1) zum Halten des Substrates (17) während der Belichtung sowie mit einer Belichtungsoptik ausgestattet ist, aus der eine Korpuskularstrahlung rechtwinklig, der Koordinate Z entsprechend, auf die Substratoberfläche gerichtet ist. Bei einem solchen Haltesystem ist mindestens eine zweite elektrostatische Chuckanordnung (6) vorgesehen, die ebenso wie die erste Chuckanordnung (1), die zum Halten des Substrates (17) während der Belichtung dient, eine Auflagefläche für das Substrat aufweist, wobei jedoch die Auflagefläche der zweiten Chuckanordnung (6) in Richtung der Koordinate Z verschieblich angeordnet ist. Beide Chuckanordnungen (1, 6) sind bezüglich ihrer Haltekraft so ausgelegt, dass das Substrat (17) sowohl bei Auflage auf der ersten Chuckanordnung (1) als auch nur bei Auflage auf der zweiten Chuckanordnung (6) positionssicher gehalten wird.