| 摘要 |
<p>La présente invention concerne un matériau résistant à l'oxydation à haute température constitué essentiellement de MoSi2 et présentant une bonne résistance à la cassure. Ce matériau comprend une base de MoSi2 ou une base comprenant au moins 70% en poids de MoSi2 constituant le composant principal. En l'occurrence, en diffractométrie aux rayons X (bulbe: Cu, ligne caractéristique: Kα) de la base, l'intensité de diffraction de la crête principale du Si (2υ=28,440°, selon JCPDS) n'excède pas de 1/100 celle de la crête principale du MoSi2 (2υ=44,684°), l'intensité de diffraction de la crête principale du Mo5Si3 (2υ=38,405°, selon JCPDS) étant de 1/300 à 1/10 celle de la crête principale du MoSi2 (2υ=44,684°).</p> |
