发明名称 METODO DE PROCESADO SUSTITUTIVO.
摘要 EN ESTA INVENCION, EN UN DISCO OPTICO (1) SOBRE EL CUAL TIENEN QUE GRABARSE LOS DATOS EN UNIDADES DE UN BLOQUE ECC CONSTRUIDO POR 16 SECTORES, SE GRABAN DATOS SIMULADOS EN EL MOMENTO DE LA MANUFACTURACION O EN EL MOMENTO INICIAL TAL COMO EL MOMENTO DE INICIO DE LA APLICACION, ENTONCES LOS DATOS SIMULADOS SON REPRODUCIDOS PARA DETERMINAR UN SECTOR CON UN DEFECTO PRIMARIO, LA DIRECCION DEL SECTOR QUE SE HA DETERMINADO QUE TIENE EL DEFECTO PRIMARIO, SE GRABA SOBRE EL DISCO OPTICO (1), Y EN EL MOMENTO DE LA GRABACION DE DATOS, LA GRABACION DE LOS DATOS SE EFECTUA EN UNIDADES DE UN BLOQUE ECC MIENTRAS SE SALTA POR ENCIMA DEL SECTOR CON EL DEFECTO PRIMARIO. ADEMAS, EN EL DISCO OPTICO (1) SOBRE EL CUAL SE VAN A GRABAR LOS DATOS EN UNIDADES DE UN BLOQUE ECC, LOS DATOS SE GRABAN EN EL MOMENTO DE LA GRABACION DE DATOS DIFERENTE AL MOMENTO INICIAL, ENTONCES LOS DATOS SON REPRODUCIDOS PARA DETERMINAR UN BLOQUE ECC QUE TIENE UN SECTOR CON UN DEFECTO SECUNDARIO, Y LOS DATOS DEL BLOQUE ECC QUE SE HA DETERMINADO QUE TIENE EL SECTOR CON EL DEFECTO SECUNDARIO SE GRABAN EN UN BLOQUE ECC QUE SE PREPARA SEPARADAMENTE. ADEMAS, EL DISCO OPTICO (1) SOBE EL CUAL SE VAN A GRABAR LOS DATOS EN UNIDADES DE UN BLOQUE ECC CONSTITUIDO POR 16 SECTORES, LOS DATOS SIMULADOS SE GRABAN EN EL MOMENTO DE LA MANUFACTURACION O EN EL MOMENTO INICIAL TAL COMO EN EL MOMENTO DE INICIO DE LA APLICACION, ENTONCES LOS DATOS SIMULADOS SON REPRODUCIDOS PARA DETERMINAR UN SECTOR CON UN DEFECTO PRIMARIO, LA DIRECCION DEL SECTOR QUE SE DETERMINA QUE TIENE EL DEFECTO PRIMARIO SE GRABA SOBRE EL DISCO OPTICO (1), LA GRABACION DE LOS DATOS SE EFECTUA EN UNIDADES DE UN BLOQUE ECC MIENTRAS SE SALTA POR ENCIMA DEL SECTOR CON EL DEFECTO PRIMARIO EN EL MOMENTO DE LA GRABACION DE DATOS, LOS DATOS SE GRABAN EN EL MOMENTO DE GRABACION DE LOS DATOS DIFERENTE AL MOMENTO INICIAL, LOS DATOS SE REPRODUCEN PARA DETERMINAR UN GRUPO ECC QUE TIENE UN SECTOR CON UN DEFECTO SECUNDARIO, Y LOS DATOS DEL BLOQUE ECC QUE SE DETERMINA QUE TIENE EL SECTOR CON EL DEFECTO SECUNDARIO SE GRABAN EN UN BLOQUE ECC QUE SE PREPARA SEPARADAMENTE.
申请公布号 ES2150160(T3) 申请公布日期 2000.11.16
申请号 ES19970104133T 申请日期 1997.03.12
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 YAMAMURO, MIKIO
分类号 G11B20/10;G11B7/00;G11B7/004;G11B20/12;G11B20/18;(IPC1-7):G11B20/18 主分类号 G11B20/10
代理机构 代理人
主权项
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