| 发明名称 |
Plasma producing method and apparatus including an inductively-coupled plasma source |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2326974(B) |
申请公布日期 |
2000.11.15 |
| 申请号 |
GB19980020829 |
申请日期 |
1997.03.04 |
| 申请人 |
* MATERIALS RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
KAIHAN * ASHTIANI |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/00;C23C16/50;C23C16/505;C23C16/507;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/31;H05H1/24;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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