| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체 웨이퍼의 표면에 박막을 형성시키기 위한 화학기상 증착장치에 관한 것으로, 화학기상증착장치는 공정 챔버와, 공정 챔버에 설치되고 반도체 웨이퍼가 놓여지는 서셉터와, 반도체 웨이퍼의 표면에 반응가스를 분사하기 위하여 반응가스가 유입되는 측의 제 1 면과, 반응가스가 배출되는 측의 제 2 면을 갖는 샤워 헤드를 포함하되; 샤워 헤드는 제 1 면으로부터 제 2 면으로 관통되는 내면을 갖고, 반응가스의 분사시 와류를 최소화 할 수 있도록 내면이 오목하게 형성된 다수개의 홀들을 구비하며, 반응가스에 의한 데미지를 방지하기 위하여 제 1 면과 제 2 면 그리고 홀들의 내면이 양극산화 처리된다.</p> |
