发明名称 | 用于形成辐射吸收涂层的含封端的异氰酸酯化合物的组合物和由其形成的抗反射涂层 | ||
摘要 | 本发明公开了一种用于形成辐射吸收涂层的组合物,该组合物包含一种有机溶剂,一种辐射吸收聚合物或一种溶解于其中的辐射吸收材料及具有封端的异氰酸酯基团的交联剂。由于交联剂的异氰酸酯基团被封端,因此,包含该交联剂的组合物具有优异的稳定性。当将组合物涂敷于基底上并烘烤时,交联反应给出抗反射涂层,其不会与通过涂敷在其上形成的抗蚀剂层相互混合,因而不会发生来自抗蚀剂层的光产酸的扩散。结果,可形成无沉积或浮渣的抗蚀剂图像。 | ||
申请公布号 | CN1273590A | 申请公布日期 | 2000.11.15 |
申请号 | CN99801068.5 | 申请日期 | 1999.06.23 |
申请人 | 克拉瑞特国际有限公司 | 发明人 | 康文兵;木村健;松尾祥子;西协良典;田中初幸 |
分类号 | C08G18/80;C09D175/04;G02B1/10;G03F7/00 | 主分类号 | C08G18/80 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 程伟 |
主权项 | 1、一种用于形成辐射吸收涂层的组合物,该组合物包含一种辐射吸收材料和一种具有两个或多个封端的异氰酸酯基团的化合物。 | ||
地址 | 瑞士穆滕茨1(CH-4132)茹索茨大街61号 |