| 主权项 |
1.一种双轴定向聚酯薄膜,其特征为由含有a)超过0.0005重量%未满0.001重量%之平均粒径dA为0.8-1.6m之交联高分子粒子,b)0.1sim0.8重量%之平均粒径dB为0.4sim0.8m之惰性粒子,c)0.05sim1.0重量%之平均粒径dC为0.01sim0.3m之惰性无机粒子之聚酯组成物所构成之双轴定向聚酯薄膜,满足下述式(1)及(2)1.5≦dA/dB≦3……(1)此处,dA与dB之定义为如上述SRz/SRa≧20……(2)此处,SRz为薄膜表面之三次元十点平均粗度而SRa为薄膜表面之三次元中心面平均粗度且平均粒径dC之上述惰性无机粒子为莫氏硬度为7以上。2.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中交联高分子粒子为至少一种选自交联矽氧烷粒子及交联聚苯乙烯粒子所组成之群。3.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中交联高分子粒子之表观的杨氏模量为10sim100kgf/mm2。4.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中平均粒径dB之惰性粒子为碳酸钙。5.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中平均粒径dC之惰性无机粒子为至少一种选自氧化铝及尖晶石型氧化物粒子所组成之群。6.如申请专利范围第5项之双轴定向聚酯薄膜,其中平均粒径dC之惰性无机粒子为由凝集粒子所构成,且其平均凝集度为2sim20。7.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中交联高分子粒子与平均粒径dB之惰性粒子为满足下述式(1)-11.7≦dA/dB≦2.7……(1)-1此处,dA与dB之定义为如上述。8.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其为满足下述式(2)-1SRz/SRa≧22……(2)-1此处,SRz与SRa之定义为同上述。9.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中薄膜表面之三次元中心面平均粗度SRa为在10sim25nm之范围。10.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中薄膜表面之中心线平均粗度Ra为在10sim25nm之范围。11.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中薄膜表面之三次元十点平均粗度SRz为在300sim600nm之范围。12.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中于卷取速度200m/分中的卷取性指数为150以下。13.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中薄膜厚度为在3sim25m之范围。14.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其中薄膜厚度为在5sim25m之范围。15.一种双轴定向层合聚酯薄膜,其特征为由第一聚酯层,及第一聚酯层之至少单面上叠层以如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜之第二聚酯层所构成。16.如申请专利范围第15项之双轴定向层合聚酯薄膜,其中第二聚酯层未与第一聚酯层接触之薄膜面的中心线平均粗度Ra2为8sim18nm。17.如申请专利范围第15项之双轴定向层合聚酯薄膜,其中于卷取速度200m/分中的卷取性指数为150以下。18.如申请专利范围第15项之双轴定向层合聚酯薄膜,其中第二聚酯层之厚度为在0.5msim2.0m之范围。19.如申请专利范围第15项之双轴定向层合聚酯薄膜,其中层合薄膜厚度为在3-25m之范围。20.如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜,其为用作为磁性记录媒体之基底薄膜。21.如申请专利范围第15项之双轴定向层合聚酯薄膜,其为用作为磁性记录媒体之基底薄膜。22.一种磁性记录媒体,其特征为由如申请专利范围第1项之双轴定向聚酯薄膜作为基底薄膜,及被该薄膜之单面上所支撑之磁性层所构成。23.一种磁性记录媒体,其特征为由如申请专利范围第15项之双轴定向层合聚酯薄膜作为基底薄膜,及被该层合薄膜之第二聚酯层上所支撑之磁性层所构成。图式简单说明:第一图为用以测定本发明双轴定向聚酯薄膜之高速行走擦伤性及削刮性之装置的概略图。 |
