发明名称 固定晶圆之钳环
摘要 一种固定晶圆之钳环,不仅可以有效的固定晶圆,更可以进一步的避免晶圆边缘在蚀刻制程中被过度蚀刻,即使晶圆的位置有些许的移动,本创作提供之钳环仍可以固定住晶圆。此外,在蚀刻制程进行时,不会影响到电浆分布的均匀度,各元件区的蚀刻可均匀的进行。而且,可延长钳环使用的时间,藉此大幅降低制作成本,并缩短更换钳环所花费的时间,可进一步的增加产能与机台运作的时间。
申请公布号 TW412063 申请公布日期 2000.11.11
申请号 TW087212392 申请日期 1998.07.30
申请人 茂德科技股份有限公司;台湾茂矽电子股份有限公司 新竹科学工业园区力行路十九号;西门子股份公司 德国 发明人 李锦瑞;林诗博;何佳陞;林明弘
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种固定晶圆之钳环,用以装设在一蚀刻机台中,该钳环包括:一钳环主体,用以固定一晶圆,其内径较该晶圆之外径为小;以及复数个方形突起,设于该钳环主体之内缘。2.如申请专利范围第1项所述之钳环,其中该钳环主体之内径与该晶圆之外径相差约1mm。3.如申请专利范围第1项所述之钳环,其中该些方形突起突出该钳环主体之内缘约1mm。4.如申请专利范围第1项所述之钳环,其中该些方形突起的位置系分布在该晶圆之上下左右。5.如申请专利范围第1项所述之钳环,其中该些方形突起的位置系放置在该晶圆之空白区域。6.一种固定晶圆之钳环,装设在一蚀刻机台中,用以在一蚀刻制程中,固定一晶圆与保护该晶圆之边缘,该钳环包括:一钳环主体,放置在该晶圆上方,其内径较该晶圆之外径为小,藉以覆盖该晶圆之边缘;以及复数个方形突起,设于该钳环主体之内缘。7.如申请专利范围第6项所述之钳环,其中该钳环主体之内径与该晶圆之外径相差约1mm。8.如申请专利范围第6项所述之钳环,其中该些方形突起突出该钳环主体之内缘约1mm。9.如申请专利范围第6项所述之钳环,其中该些方形突起的位置系分布在该晶圆之上下左右。10.如申请专利范围第6项所述之钳环,其中该些方形突起的位置系放置在该晶圆之空白区域。图式简单说明:第一图A是一种固定晶圆的钳环之结构示意图;第一图B绘示为第一图A局部区域126的放大图;第二图A与第二图B,其绘示为习知在MXP氧化反应室中,进行深沟渠罩幕开窗与深沟渠蚀刻步骤的晶圆结构示意图;以及第三图绘示为依照本创作一较佳实施例的一种固定晶圆之钳环的结构示意图。
地址 新竹科学工业园区力行路十九号三楼