| 主权项 |
1.一种基体运送与加工系统,包含: 一容器的供应区,用以容纳呈水平状态之欲加工的 基体于其内; 该容器的释放区; 基体卸载装置,用以从该容器卸下该基体; 基体装载装置,用以使该基体装入该容器; 姿态改变装置,用以使该基体的姿态在水平状态和 垂直状态之间改变; 一加工区,用以适当地加工该基体;以及 一基体运送装置,用以在该姿态改变装置和该加工 区之间运送该基体,并用以在该加工区内 运送该基体。2.一种基体运送与加工系统,包含: 一容器的供应区,用以容纳呈水平状态之欲加工基 体于其内; 该容器的释放区; 基体卸载装置,用以从该容器卸下该基体; 基体装载装置,用以使该基体装入该容器; 姿态改变装置,用以使该基体的姿态在水平状态和 垂直状态之间改变; 一加工区,用以适当地加工该基体;以及 一基体运送装置,用以运送该基体(该基体的姿态 已被该姿态改变装置改变)至设于该加工区 相对于该等供应区和释放区之一侧上的界面区。3 .如申请专利范围第2项之基体运送与加工系统,其 更包含第二基体运送装置,用以在该加 工区和该姿态改变装置之间运送该基体,并用以在 该加工区内运送该基体。4.一种基体运送与加工 系统,包含: 一容器的供应区,用以容纳呈水平状态之欲加工基 体于其内; 该容器的释放区; 一用以适当地加工该基体的加工区; 一界面区,设置于该加工区相对于该供应区和释放 区之一侧上;以及 一容器运送装置,用以传送被送至该供应区的容器 到该界面区, 该界面区包括: 基体卸载装置,用以从该容器卸下该基体, 第一姿态改变装置,用以使该基体(该基体被该基 体卸载装置从该容器卸下)之姿态从水平状 态改变到垂直状态, 基体运送装置,用以在该第一姿态改变装置和该加 工区之间传送该基体,并用以在该加工区 内传送该基体, 第二姿态改变装置,设于该等供应区和释放区之相 对侧,用以使该基体之姿态从垂直状态改 变到水平状态, 基体装载装置,用以使该基体装入该容器。5.如申 请专利范围第4项之基体运送与加工系统,其更包 含第二基体运送装置,用以在该加 工区和该第二姿态改变装置之间运送该基体,并用 以在该加工区内运送该基体。6.如申请专利范围 第4项之基体运送与加工系统,其更包含一沿该容 器运送装置之运送通道 所设置的容器等候区。7.如申请专利范围第1或2项 之基体运送与加工系统,其中该基体卸载装置和该 基体装载装置 包含具有一基体卸载区和一基体装载区的基体卸 载/装载装置。8.如申请专利范围第1或2项之基体 运送与加工系统,其更包含: 一用以容纳空容器的容器等候区;以及 容器运送装置,用以在该等供应和释放区内、及该 等供应与释放区和该容器等候区之间运送 该容器。9.如申请专利范围第1.2或4项之基体运送 与加工系统,其更包含容器运送装置,用以在该 供应与释放区以及该基体卸载位置和该基体装载 位置之间运送该容器,其中该基体在该卸载 位置被该基体卸载装置从该容器卸下,而在该基体 装载位置被该基体装载装置装入该容器。10.如申 请专利范围第1或2项之基体运送与加工系统,其更 包含: 一用以容纳该容器的容器等候区; 第一容器运送装置,用以在该供应与释放区和该容 器等候区之间运送该容器;以及 第二容器运送装置,用以在该容器等候区和该基体 卸载与装载装置之间运送该容器。11.如申请专利 范围第8或10项之基体运送与加工系统,其中该容器 等候区具有用以移动该容 器的容器移动装置。12.如申请专利范围第1.2.或4 项之基体运送与加工系统,其更包含用以使从容器 卸下之基 体定位之定位装置。13.如申请专利范围第1.2.或4 项之基体运送和加工系统,其中该姿态改变装置具 有用以调 整邻接基体间之空间的空间调整装置。14.如申请 专利范围第1.2.或4项之基体运送与加工系统,其中 该加工区具有用以收纳该基 体的加工浴和一用以传送该基体进出该加工浴的 移动机构。15.如申请专利范围第14项之基体运送 与加工系统,其中该移动机构被构形成能够运送该 基 体进出多个加工浴。16.如申请专利范围第1.2.或4 项之基体运送与加工系统,其中该加工区包含一用 以收纳该 基体的加工浴、用以供应化学药剂到该加工浴的 化学药剂供应装置、以及用以供应清洁溶剂 到该加工浴的清洁溶剂供应装置。17.如申请专利 范围第1.2.或4项之基体运送与加工系统,其中该加 工区具有用以漾洁至少 该基体运送装置之基体固持区的清洁装置。18.如 申请专利范围第1.2.或4项之基体运送与加工系统, 其中该加工区具有用以清洁和乾 燥该基体的漾洁/乾燥装置。19.如申请专利范围第 1.2.或4项之基体运送与加工系统,其中该供应区具 有一容器入口和 一基体出口,且该释放区具有一容器出口和一基体 入口。20.如申请专利范围第1.2.或4项之基体运送 与加工系统,其中该基体卸载装置和该基体装 载装置可运送多个基体。21.如申请专利范围第1.2. 或4项之基体运送与加工系统,其中该供应区和该 释放区为平行 设置,且该加工区面对该等供应区和释放区。22.如 申请专利范围第1.2.或4项之基体运送与加工系统, 其更包含用以从该姿态改变装置 传送基体到该加工区的第一运送装置,以及用以从 该加工区运送该基体到访姿态改变装置的 第二基体运送装置。23.如申请专利范围第1.2.或4 项之基体运送与加工系统,其中该基体运送装置可 移动到一 面对该姿态改变装置的位置,且其更包含基体传送 装置,设置于该基体运送装置和该姿态改 变装置之间,用以在其等之间传送该基体。24.一种 清洁欲加工物件的清洁系统,包含: 一界面区,一欲加工物件被传送进出该界面区; 一清洁该物件的清洁区; 一运送该物件进出该界面区的运送匣门; 一开关该运送匣门的第一窗板; 一在该界面区和该清洁区之间运送该物件的运送 通道; 一开关该运送通道的第二窗板; 一驱动该第一窗板的第一驱动部份; 一驱动该第二窗板的第二驱动部份。25.如申请专 利范围第24项之清洁系统,其中当第一窗板打开时, 第二窗板则关闭,且当第 二窗板打开时,第一窗板则关闭。26.如申请专利范 围第24项之清洁系统,其中该第一驱动部份位于该 运送匣门下方,且该第 二驱动部份位于该运送通道下方。27.如申请专利 范围第24项之清洁系统,其中当第一窗板向下移动 时,该运送闸门打开,且 当该第二窗板向下移动时,该运送通道打开以便允 许该物件在该界面区和该清洁区之间被运 送。图式简单说明: 第一图系根据本发明之清洁系统的第一较佳实施 例的示意平面图,基体运送与加工系统 被应用到清洁系统中; 第二图系该清洁系统的示意侧视图; 第三图系该清洁系统的示意外观图; 第四图系根据本发明之容器运送装置和容器等候 区的外观图; 第五图系根据本发明之容器之一例的外观图; 第六图系该容器之剖面图; 第七图系根据本发明之基体释放区的外观图; 第八图系描绘该容器之盖子由基体释放区移出的 外观图; 第九图系根据本发明之定位装置的示意断面图; 第十图系该定位装置之主要元件的外观图; 第十一图系根据本发明之空间调整装置和姿态改 变装置的侧视图; 第十二图系该空间调整装置的侧视图; 第十三图系该空间调整装置之主要元件的外观图; 第十四图系根据本发明之基体运送装置之一主要 元件的外观图; 第十五图系根据本发明之基体移动装置之外观图; 第十六图系根据本发明之加工单元之一例的断面 图; 第十七图系根据本发明之晶圆舟皿之另一较佳实 施例的平面图; 第十八图系该晶圆舟皿的侧视图; 第十九系该晶圆舟皿的断面图; 第二十图(a)系连接到晶圆舟皿之支 基座构件的支 杆连接部份的断面图; 第二十图(b)系连接到晶圆舟皿之固持构件的支 杆 连接部份的断面图; 第二十一图系连接到固持构件之支 杆连接部份的 断面图; 第二十二图(a)系用于晶圆舟皿之侧固持构件之固 持沟槽的放大剖面图; 第二十二图(b)系下固持构件之倾斜防止沟槽的放 大剖面图; 第二十三图系本发明之基体运送形式的示意外观 图; 第二十四图系本发明第二较佳实施例之示意外观 图; 第二十五图系本发明之第三较佳实施例之示意外 观图; 第二十六图系本发明之第四较佳实施例之示意外 观图; 第二十七图系第四较佳实施例之基体运送装置的 示意外观图; 第二十八图系第四较佳实施例之基体运送装置的 示意外观图; 第二十九图系本发明之第五实施例之示意外观图; 第三十图系在第五较佳实施例中的容器等候区的 示意平面图; 第三十一图系在第五较佳实施例之容器的堆放形 式之示意外观图; 第三十二图系第五较佳实施例之容器运送装置的 示意外观图; 第三十三图系第五较佳实施例之容器运送机器人 之示意外观图; 第三十四图系第五较佳实施例之容器运送装置之 示意外观图; 第三十五图系第五较佳实施例之晶圆计数器的示 意外观图; 第三十六图系本发明第六较佳实施例的示意外观 图; 第三十七图系由第三十六图之线A-A所取得之示意 断面图; 第三十八图系由第三十六图之线B-B所取得之示意 断面图; 第三十九图系本发明第七实施例的示意外观图; 第四十图系由第三十九图之线C-C所取得之示意断 面图; 第四十一图系由第三十九图之线D-D所取得之示意 断面图; 第四十二图系根据本发明之清洁系统的示意断面 图; 第四十三图系第四十二图之界面区的平面图; 第四十四图系第一窗板之例示图;以及 第四十五图系第二窗板之例示图。 |
