发明名称 METHOD AND APPARATUSES FOR PLASMA TREATMENT
摘要 <p>L'invention concerne un procédé et un appareil pour le traitement au plasma de gaz, plus particulièrement pour la transformation, la passivation et la stabilisation d'adjuvants polluants et toxiques et pour les applications de gaz traités au plasma dans le traitement au plasma de surfaces à des pressions de gaz dépassant 100 Torr. Un gaz d'écoulement (1) à traiter traverse une cathode creuse (2) dotée d'une contre-électrode (5) et reliée à un générateur (4) de plasma de décharge (3) à cathode creuse. Le gaz (1) subit des interactions avec des électrons oscillants (6) contenus dans le plasma de décharge en cours de génération dans le gaz. L'interaction dudit plasma avec les parois internes (8) de la cathode creuse est régulée et la température des parois internes devrait être inférieure à son point de fusion et ce, dans le but de produire un effet catalytique. Les parois internes peuvent aussi libérer des espèces (9) favorisant des réactions plasma chimiques dans le plasma de décharge. Le gaz devient ensuite un gaz transformé (10) après avoir été traité dans le plasma de décharge et peut être utilisé pour le traitement des surfaces. Un gaz à traiter peut aussi être mélangé à un gaz auxiliaire (7) afin d'obtenir un mélange adéquat de gaz, le gaz auxiliaire servant à intensifier un rayonnement ultraviolet et/ou les réactions plasma chimiques.</p>
申请公布号 WO2000065887(A1) 申请公布日期 2000.11.02
申请号 SE2000000791 申请日期 2000.04.27
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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