| 发明名称 |
Bottom resist |
| 摘要 |
<p>Der Bottomresist nach der Erfindung enthält folgende Komponenten: ein phenolisches Basispolymer, eine thermoaktive Verbindung, die oberhalb einer Temperatur von 100°C eine Sulfonsäure freisetzt, ein Lösemittel.</p> |
| 申请公布号 |
EP1048980(A1) |
申请公布日期 |
2000.11.02 |
| 申请号 |
EP20000108380 |
申请日期 |
2000.04.17 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
HIEN, STEFAN, DR.;SEBALD, MICHAEL, DR. |
| 分类号 |
G03F7/095;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/11;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
G03F7/095 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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