| 主权项 |
1.一种子弹(10)其特征为具有: 一尖头拱形鼻部(20); 一后尾部(30);及 一中间部(110),配置于该鼻部与该后尾部之间,该子 弹界定一修长并具气动力外形、且有 一旋转轴(710)之躯体; 该中间部一表面凹陷处,该滚转阻尼增强段向外伸 展之程度约不多于凹陷处之深度,俾以引 起该子弹于一预定射程变成回转不稳定并于之后 持续回转不稳定。2.如申请专利范围第1项之子弹( 10),其特征为该鼻部(20)于其全部轴向量度上大致 呈圆锥 形。3.如申请专利范围第1项之子弹(10),其特征为 于该弹盘中该滚转阻尼增强段包括多数个并 排列置的长形的凹槽面(120),于该鼻部(20)与后尾部 (30)之间顺纵轴方向伸展,其中凹槽 面向外伸展之程度约不超过该中间部(110)凹陷处 之深度。4.如申请专利范围第3项之子弹(10),其特 征为凹槽面(120)之数目介于4至12之间。5.如申请专 利范围第3项之子弹(10),其特征为该子弹具有一系 列槽口(140),有充足大小以 容纳一相关凹槽面(120)之终端部份。6.如申请专利 范围第3项之子弹(10),其特征为该凹槽面(120)沿辐 向朝外且垂直于旋转轴 (170)伸展。7.如申请专利范围第1项之子弹(10),其特 征为滚转阻尼段(100)系相对于纵轴(710)而偏向 来临空气方向上斜置。8.如申请专利范围第7项之 子弹(10),其特征为滚转阻尼段(100)系相对于纵轴( 710)偏向来 临空气方向上斜置约3至5之角度。9.如申请专利 范围第1项之子弹(10),其特征为该滚转阻尼加强段( 100)包括一多数个并排列 置之宽平面(220)界定沟渠(180)作成于弹体,于该鼻 部(20)与后尾部(30)之间顺纵轴方向伸 展,该宽平面向外伸展之程度约不超过该中间部( 110)凹陷处之深度。10.如申请专利范围第9项之子 弹(10),其特征为宽平面(220)之数目介于4至12之间。 11.如申请专利范围第10项之子弹(10),其特征为该等 宽平面(220)系环绕子弹圆周等距间隔 布设。12.如申请专利范围第1项之子弹(10),其特征 为该滚转阻尼加强段(100)之长度可达2.0倍于 子弹弹体直径,并界定多数个空气窝穴(180),各具有 一介于3%至7%子弹弹体直径之深度。13.如申请专利 范围第1项之子弹(10),其特征为该滚转阻尼加强段( 100)包括该子弹之重心 。14.如申请专利范围第1项之子弹(10),其特征为于 该滚转阻尼加强段(100)与该后尾部之间 配置一闭塞带(160)。15.一种子弹(10)其特征为具有: 一弹体,具有一旋转轴(710)并包括: 一尖头拱形鼻部(20); 一后尾部(30);及 一滚转阻尼段(100),配置于上述两者之间; 该弹体具有气动力形状之外表面,并在该弹体的弹 道初始回转稳定部份时,绕着旋转轴旋转 ; 该滚转阻尼段包括: 多数个围绕圆周配置之气动力表面(120,220),各配置 成紧接该弹道初始部份之后会在弹体 上产生充分气动力之扰动,从而在该弹道后续部份 ,降低该子弹之回转稳定性; 该等表面(120,220)界定多数个空气窝穴(180); 该等表面(120,220)具有一长度达二倍于子弹弹体直 径及一自表面起始之深度,约为弹体直 径之百分之3.5至6.0。图式简单说明: 第一图示一根据本发明具有增强滚转阻尼子弹之 射程限制特性曲线。 第二图示射程限制子弹具有一大致呈圆锥形之鼻 部及一具有凹槽面之滚转阻尼增强段。 第三图示射程限制子弹具有一大致呈圆锥形鼻部 及一具有界定沟渠的宽平面之滚转阻尼 增强段。 第四图示射程限制子弹具有斜置凹槽面。 第五图示射程限制子弹具有斜置宽平面。 第六图示射程限制子弹具有一斜置滚转阻尼段之 轴向横截面图。 第七图示该子弹于90之纵向横截面图。 第八图A及第八图B分别表示凹槽面或宽平面于数 量上之变异。 第九图示具有可调斜置滚转阻尼凹槽面之射程限 制子弹。 第十图示滚转阻尼增强凹槽面或宽平面朝向角之 横断剖面图。 第十一图A及第十一图B示双锥体形凹槽面大小之 一例。 第十二图A及第十二图B示圆锥圆筒形凹槽面大小 之一例。 第十三图示射程限制子弹具有一实心滚转阻尼段 。 |
