清洗液及使用该清洗液的半导体装置的制造方法

摘要

使用包含作为主要成分的缩合磷酸铵、作为辅助剂的尿素或尿素的变态成分和酸且氢离子浓度在10^－4mol/l以上的清洗液除去附着在从半导体衬底2上露出的第2布线层20和埋入金属膜14上的抗蚀剂残渣22a。由此,即使由于无边界布线的缘故,埋入到连接孔中的埋入膜的一部分露出,也能可靠地除去抗蚀剂残渣而不溶解该埋入层或布线层等的导电层。

主权项

1.一种清洗液，包含作为主要成分的缩合磷酸铵、作为辅助剂的尿素或尿素的变态成分和酸，其特征在于：氢离子浓度在10-4mol/l以上。